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    先進封裝技術(shù)介紹--高帶寬架構(gòu)(HBF,High Bandwidth Fabrics)

    2026-02-09 11:33:49 LH 318

    轉(zhuǎn):

    一,HBF高帶寬架構(gòu)工藝定義:

           HBF 是 High Bandwidth Fabrics 的縮寫,直譯為“高帶寬架構(gòu)”。它是一種由 英特爾 提出并主導的先進封裝技術(shù)和互連標準。其核心目標是在一個封裝內(nèi),將多個芯片(如計算芯片、內(nèi)存、I/O芯片等)通過一個超高帶寬、低功耗、低延遲的片上互連網(wǎng)絡(luò)連接起來,形成一個高性能的“超級芯片”。

    簡單理解:HBF 就像是在一個“微型主板”上,為各個芯片構(gòu)建了一個超級高速公路網(wǎng),讓它們能以極高的速度和效率交換數(shù)據(jù)。

    圖片
    二,HBF高帶寬架構(gòu)設(shè)計規(guī)則

    最基礎(chǔ)的“能否裝得下、連得上”的規(guī)則。

    • 凸塊與間距規(guī)則

      • 凸塊類型:明確允許使用的互連類型(如微凸塊用于標準連接,銅柱混合鍵合用于Foveros Direct)。

      • 凸塊間距:規(guī)定最小凸塊中心距(例如,標準微凸塊為35-55μm,混合鍵合可達<10μm)。這直接決定了互連密度和帶寬。

      • 凸塊陣列布局:規(guī)定芯粒邊緣必須留出非功能凸塊(啞凸塊) 用于機械支撐,以及電源/接地凸塊的分布比例和模式。

    • 芯粒與硅橋布局規(guī)則

      • 芯粒尺寸和形狀限制:對芯粒的最大/最小尺寸、長寬比、以及邊緣到有效電路的距離(切割道)有明確規(guī)定。

      • 芯粒到芯粒間距:規(guī)定兩個相鄰芯粒之間的最小距離(芯片到芯片間隙),以確保有足夠空間填充下填料,并避免熱機械應力干擾。

      • 硅橋?qū)嗜莶?/span>:規(guī)定芯粒上的凸塊陣列與下方硅橋上的焊盤之間允許的最大對準誤差(通常為±1~2μm)。這直接影響設(shè)計的余量和良率。

    • “Keep-out Zone”規(guī)則

      • 在芯粒的特定區(qū)域(如靠近邊緣、靠近高熱模塊處)禁止放置敏感電路或關(guān)鍵信號凸塊,以規(guī)避應力、熱梯度或封裝效應的不利影響。

        圖片
    三,HBF高與HBM對比
    對比維度HBM(高帶寬內(nèi)存)HBF(高帶寬互連架構(gòu))
    中文全稱
    高帶寬內(nèi)存
    高帶寬互連架構(gòu)
    英文全稱
    High Bandwidth Memory
    High Bandwidth Fabrics
    本質(zhì)屬性存儲器芯片產(chǎn)品封裝互連技術(shù)平臺
    技術(shù)范疇
    存儲技術(shù)
    先進封裝與系統(tǒng)集成技術(shù)
    核心功能
    數(shù)據(jù)存儲與高速訪問
    芯片間高速通信與連接
    供應形式
    標準化內(nèi)存芯片
    系統(tǒng)集成解決方案
    對比維度HBMHBF
    核心技術(shù)
    3D堆疊 + 硅通孔(TSV)
    嵌入式硅橋 + 網(wǎng)絡(luò)化互連
    連接方式
    芯片內(nèi)垂直連接(層間)
    封裝內(nèi)水平/垂直連接(芯片間)
    密度提升方式
    垂直堆疊增加存儲密度
    微米級布線提升互連密度
    接口特性
    超寬并行接口(1024/2048位)
    標準化芯粒接口(UCIe/AIB)
    物理形態(tài)
    內(nèi)存立方體(堆疊結(jié)構(gòu))
    硅橋網(wǎng)絡(luò)(平面/立體網(wǎng)絡(luò))
    制造工藝
    DRAM專用工藝 + TSV工藝
    半導體互連工藝 + 先進封裝工藝
    代表產(chǎn)品/技術(shù)
    HBM2E, HBM3, HBM3E
    EMIB, Foveros, UCIe兼容接口
    參數(shù)類型HBM典型值/特征HBF典型值/特征
    連接密度
    TSV密度:數(shù)千-數(shù)萬/芯片
    布線密度:>10 Tb/s/mm
    物理間距
    微凸塊間距:35-55μm
    硅橋布線間距:1-2μm
    傳輸延遲
    訪問延遲:納秒級
    互連延遲:皮秒級
    能效比
    ~3 pJ/bit
    ~0.5 pJ/bit
    帶寬規(guī)模
    單堆棧>1 TB/s
    網(wǎng)絡(luò)總帶寬>10 TB/s
    工藝節(jié)點
    專用DRAM工藝(10-20nm級)
    多種工藝混搭(3nm-28nm+)
    溫度特性
    工作溫度較高,需專門散熱
    需考慮多芯片熱耦合效應
    際發(fā)展HBM演進HBF演進
    第一代
    HBM1(2015)
    ? 4層堆疊
    ? 128GB/s帶寬
    EMIB(2017)
    ? 基礎(chǔ)硅橋
    ? 2D平面連接
    第二代
    HBM2(2016)
    ? 8層堆疊
    ? 256GB/s帶寬
    Foveros(2019)
    ? 3D堆疊技術(shù)
    ? 芯片上堆疊芯片
    第三代
    HBM2E(2020)
    ? 8-12層堆疊
    ? 460GB/s帶寬
    Foveros Omni(2021)
    ? 多芯粒3D集成
    ? 混合封裝技術(shù)
    第四代
    HBM3(2022)
    ? 16層堆疊
    ? 819GB/s帶寬
    Foveros Direct(2022)
    ? 混合鍵合技術(shù)
    ? <10μm凸塊間距
    發(fā)展趨勢
    ? 堆疊層數(shù)繼續(xù)增加
    ? 帶寬密度提升
    ? 能效比優(yōu)化
    ? 互連密度持續(xù)提升
    ? 支持更多芯粒集成
    ? 向chiplet生態(tài)系統(tǒng)演進


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